無論您是想以快的速度分析成百上千個基體復雜的樣品，還是想要獲得高純試劑中超痕量雜質的可信結果，安捷倫7700 系列ICP-MS 都能助您滿足當前以及未來的分析需求。

安捷倫7700 系列ICP-MS – ICP-MS 儀器的新面孔–是上zui小的商品化ICP-MS。作為暢銷的安捷倫7500 系列ICP-MS的繼承者，7700性能在各方面更勝一籌：分析速度更快、操作更簡便、靈敏度更高、背景噪音更低、消干擾效果更佳、應用面更廣、維護更方便。7700具有適應多種樣品類型、應用范圍廣泛、性能穩定耐用的特點，是大多數常規實驗室和分析大批量樣品的商業實驗室的優選擇。7700s 則是專為半導體行業應用而設計，具有半導體針對性的強大功能。這兩種型號都具有無可比擬的性能和易于使用的優點，即使您面對的是棘手的樣品基體，它們都能為您獲取值得信賴的分析結果。

7700 系列ICP-MS不但配置了新的軟件平臺，而且在儀器硬件方面也進行了革新設計，包括全新數字控制式射頻匹配的RF發生器和第三代八桿碰撞/反應池系統 (ORS3)。安捷倫7700 ICP-MS 憑借第三代碰撞/ 反應池(ORS3) 為復雜高基體樣品的分析提供了無可比擬的準確性，它革命性地重新定義了碰撞/反應池：僅使用氦氣碰撞即可消除所有可能的質譜干擾!
技術參數：

　　1. 靈敏度：

　　低質量數 Li(7): 50 Mcps/ppm;

　　中質量數 Y(89): 160 Mcps/ppm(7700); 240 Mcps/ppm(7700s) ;

　　(高質量數 Tl(205): 80 Mcps/ppm(7700); 120 Mcps/ppm(7700s);

　　根據用戶特殊需求，如激光、核工業、半導體材料等應用，可提供超高靈敏度功能

　　2. 檢測限：

　　低質量數 Be(9): 0.5 ppt;

　　中質量數 In(115): 0.1 ppt

　　高質量數 Bi(209): 0.1 ppt

　　3. 氧化物干擾: CeO+/Ce+: 1.5 %(7700); 3.0 %(7700s);

　　4. 雙電荷干擾: Ce2+/Ce+: 3.0 %

　　5. 同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%

　　6. 質譜范圍：2 - 260 amu;

　　7 豐度靈敏度

　　低質量端: 5 x 10-7

　　高質量端: 1 x 10-7
主要特點：

　　尺寸zui小的ICP-MS

　　靈敏度zui高的碰撞池-第三代ORS3

　　的純 He 氣碰撞池：只用He氣就可以消除所有干擾。

　　耐高鹽的ICP-MS: HMI技術(TDS>3%)

　　的ICP離子源技術：的數字控制式諧頻ICP發生器

　　有機溶劑進樣不熄火!

　　分析速度快：ISIS-DS技術

　　容易維護和清洗

　　強的色譜聯機功能：真正的一體化

　　功能多強的軟件：MassHunter系統，實現實時QA/QC

　　偏移標示，自動化控制等