器由倒置式改為正置式,更符合人們的操作習慣;
應用CMOS代替CCD,省去圖象卡并提高了質量;
用低壓電源代替高壓電源,節省了儀器成本;
用國產的代替德國進口壓電陶瓷,解決了關鍵部件的進口難題;
增加了自動步距和亮度校正程序,同時增加了局部放大三維立體圖功能;
表面微觀不平深度測量范圍:130?1nm
測量的重復性:sRa≤0.5nm
測量精度:8nm
物鏡倍率:40X
數值孔徑:0.65
儀器視場 目視:f0.25mm
攝象:0.13X0.13mm
儀器放大倍數 目視:500X
攝象(計算機屏幕觀察):2500X
接收器測量列陣:1000X1000
象素尺寸:5.2X5.2nm