等離子表面處理機(jī)是一種非破壞性的表面處理設(shè)備，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達(dá)到對(duì)

 

上海昭沅儀器設(shè)備有限公司專(zhuān)業(yè)致力于銷(xiāo)售各種高端科研儀器，代理世界一流公司的表面測(cè)試及表面處理等產(chǎn)品，公司擁有一批經(jīng)驗(yàn)豐富的銷(xiāo)售人員和技術(shù)人員組成，著重為各高校，研究所等單位提供集產(chǎn)品、應(yīng)用和服務(wù)于一體的整體解決方案！ 

      公司重點(diǎn)致力于大專(zhuān)院校、科研院所實(shí)驗(yàn)和企業(yè)生產(chǎn)所需的各種表面處理設(shè)備、表面形貌測(cè)試儀器及相關(guān)電鏡耗材的銷(xiāo)售和技術(shù)推廣。

    公司擁有完善的銷(xiāo)售網(wǎng)絡(luò)和雄厚的技術(shù)力量，始終致力于提供安全、穩(wěn)定、高性能的實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備及專(zhuān)業(yè)產(chǎn)品，為您提供快速、滿意的安裝和售后服務(wù)。

Plasma Etch, Inc 公司介紹

Plasma Etch公司成立于1980年，致力于提供電子行業(yè)用的等離子設(shè)備及相關(guān)服務(wù)。通過(guò)幾十年的發(fā)展，公司發(fā)展成為提供等離子設(shè)備方面的，可為客戶提供專(zhuān)業(yè)的產(chǎn)品和解決方案，先后為眾多知名企業(yè)提供等離子處理設(shè)備，如美國(guó)宇航局NASA, 美國(guó)波音Boeing，的電子保安系統(tǒng)產(chǎn)品制造商美國(guó)霍尼韋爾Honeywell,美國(guó)摩托羅拉Moto, 德國(guó)拜耳Bayer，軍用飛機(jī)的領(lǐng)軍企業(yè)美國(guó)洛克希德馬丁Lockheed-Martin等等。

      Plasma Etch擁有多項(xiàng)發(fā)明，在開(kāi)發(fā)和制造等離子設(shè)備方面有許多突破性創(chuàng)新，公司擁有等離子體技術(shù)和制造技術(shù)領(lǐng)域里的技術(shù)。這些的產(chǎn)品線是公司獨(dú)有的，生產(chǎn)的等離子設(shè)備是業(yè)界公認(rèn)的集清洗速度、完整均勻性、安全可靠性為一體的等離子處理設(shè)備。

專(zhuān)業(yè)溫控技術(shù)

在等離子體處理過(guò)程中，溫度是確保均勻性、有效性的一個(gè)重要參數(shù)。Plasma Etch生產(chǎn)的等離子設(shè)備具有可直接調(diào)節(jié)電溫度的。通過(guò)電腦程序的自動(dòng)控制可保證整個(gè)等離子處理過(guò)程中溫度的穩(wěn)定性。這種技術(shù)是成熟且高度可靠的，并可由操作者操作控制。

操作者可在系統(tǒng)控制范圍內(nèi)設(shè)置任何溫度并自動(dòng)保持該溫度，可在溫度范圍內(nèi)設(shè)置成zui高溫度來(lái)處理任何材料和基底，從而可以以快的速度處理樣品。無(wú)需預(yù)熱或者預(yù)啟動(dòng)等離子設(shè)備就可以間歇的處理樣品或者不斷的重復(fù)處理過(guò)程。

      靜電屏蔽技術(shù)

我們與許多行業(yè)進(jìn)行合作并進(jìn)行大量的研究，許多公司采用我們具有和特點(diǎn)的真空腔，真空腔采用航空級(jí)鋁合金材料，具有非常好的耐用性。研究表明，采用鋁合金作為腔體可以微調(diào)每個(gè)等離子處理過(guò)程直到的均勻性。等離子處理過(guò)程控制不恰當(dāng)?shù)脑挄?huì)導(dǎo)致對(duì)樣品的損壞，均勻性欠佳導(dǎo)致某些地方燒焦、彎曲或者損壞樣品，對(duì)此我們改進(jìn)了設(shè)計(jì)。采用我們的靜電屏蔽技術(shù)就可以使得等離子體且均勻在電表面穿流而過(guò)，這一技術(shù)大大降低了等離子處理過(guò)程中對(duì)樣品的損傷。該電磁屏蔽技術(shù)是Plasma Etch獨(dú)有的。

       系統(tǒng)控制軟件

Plasma Etch生產(chǎn)的等離子設(shè)備和控制軟件的接口都是獨(dú)特的，軟件可以監(jiān)控和自動(dòng)控制處理進(jìn)程，如下：

1.創(chuàng)建等離子處理工藝流程

2.監(jiān)控和記錄處理數(shù)據(jù)

3.設(shè)置數(shù)據(jù)警報(bào)點(diǎn)

4.存儲(chǔ)過(guò)程數(shù)據(jù)

5.實(shí)時(shí)自動(dòng)監(jiān)測(cè)處理工藝

6.創(chuàng)建特定樣品的處理工藝流程

7.制定連續(xù)的處理任務(wù)

通過(guò)使用該控制軟件，可以的控制等離子處理過(guò)程的每一個(gè)環(huán)節(jié)，并能夠從程序中刪除失誤操作。

       更快地刻蝕速度

Plasma Etch的等離子設(shè)備刻蝕速度是其他等離子設(shè)備的3倍以上。獨(dú)特的設(shè)計(jì)和，如溫控技術(shù)和靜電屏蔽的結(jié)合使我們能夠在等離子體處理上提供的質(zhì)量與速度。

 

應(yīng)用領(lǐng)域

目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于：等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理，在真空電子、LED、太陽(yáng)能光伏、集成電路、生命科學(xué)、半導(dǎo)體科研、半導(dǎo)體封裝、芯片制造、MEMS器件等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。





公司發(fā)展歷程

1980年初 – 公司成立并生產(chǎn)臺(tái)等離子系統(tǒng)；
1980 年底- 為線路板企業(yè)提供等離子處理設(shè)備；
1987 年- 發(fā)明TRUE等離子控溫，控制并能保持整個(gè)等離子處理過(guò)程中溫度的穩(wěn)定性；
1988年 – 公司擴(kuò)大搬遷至California, USA；
1989年 – 生產(chǎn)臺(tái)電腦控制等離子處理設(shè)備；.
1992年 – 發(fā)明電磁屏蔽技術(shù)；.
1994年 – 生產(chǎn)PE-1000聯(lián)機(jī)等離子處理設(shè)備；
1996年 – 生產(chǎn)自動(dòng)機(jī)器人裝卸系統(tǒng)；
1996年 – 公司擴(kuò)大搬遷至Nevada, USA.
1997年 – 生產(chǎn)MK-III等離子盲鉆系統(tǒng)；
1998年 – 生產(chǎn)TT-1 旋轉(zhuǎn)式等離子處理系統(tǒng)；
2000 年- 生產(chǎn)PE-2000R卷輪式/滾動(dòng)式等離子處理系統(tǒng)；
2003年 – 改進(jìn)BT-1刻蝕機(jī)；
2004年 – 增加PE-200和BT-1基于windows的控制軟件和觸屏功能
2005年 – 生產(chǎn)臺(tái)式PE-100；
2010年 –生產(chǎn)臺(tái)式PE-50；
2012 年– 研制不需要CF4操作的麥格納系列


詳情請(qǐng)咨詢上海昭沅儀器設(shè)備有限公司



本頁(yè)產(chǎn)品地址：http://www.blueally.cn/sell/show-4858975.html