廊坊橢圓偏振光測厚儀 光譜式橢偏儀 以及常見的結(jié)構(gòu)橢圓偏振光測厚儀

產(chǎn)品簡介: ESS03是針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量領(lǐng)域推出的波長掃描式多入射角光譜橢偏儀，此系列儀器的波長范圍覆蓋紫外、可見、近紅外、到遠(yuǎn)紅外。 ESS03采用寬光譜光源結(jié)合掃描單色儀的方式實現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量。 ESS03系列多入射角光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如，膜層厚度、表面微粗糙度等）和光學(xué)參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k、復(fù)介電常數(shù)ε等），也可用于測量塊狀材料的光學(xué)參數(shù)。 ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。 技術(shù)特點： 寬的光譜范圍 采用寬光譜光源、寬光譜掃描德系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計，保證了儀器在寬的光譜范圍下都具有高準(zhǔn)確度，非常適合于對光譜范圍要求其嚴(yán)格的場合。 靈活的測量設(shè)置 儀器的多個關(guān)鍵參數(shù)可根據(jù)要求而設(shè)定（包括：波長范圍、掃描步距、入射角度等），大地提高了測量的靈活性，可以勝任要求苛刻的樣品。 原子層量級的檢測靈敏度 的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的設(shè)計和制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級地納米薄膜，膜厚精度達(dá)到0.05nm。 非常經(jīng)濟的技術(shù)方案 采用較經(jīng)濟的寬光譜光源結(jié)合掃描單色儀的方式實現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量，儀器整體成本得到有效降低。 應(yīng)用領(lǐng)域： ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。 ESS03適合很大范圍的材料種類，包括對介質(zhì)材料、聚合物、半導(dǎo)體、金屬等的實時和非實時檢測，光譜范圍覆蓋半導(dǎo)體地臨界點，這對于測量和控制合成的半導(dǎo)體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量級到10微米左右）。 ESS03可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。 薄膜相關(guān)應(yīng)用涉及物理、化學(xué)、信息、環(huán)保等，典型應(yīng)用如： 半導(dǎo)體：如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）； 平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等； 功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等； 生物和化學(xué)工程：有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處

廊坊橢圓偏振光測厚儀 光譜式橢偏儀 以及常見的結(jié)構(gòu)多種型號圖片

型號:JX200090EX2自動橢圓偏振測厚儀	型號:JX200096EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀	型號:JX200100ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀

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廊坊橢圓偏振光測厚儀 光譜式橢偏儀 以及常見的結(jié)構(gòu)多種型號內(nèi)容

型號:JX200090EX2自動橢圓偏振測厚儀


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光譜橢偏儀
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EX2自動橢圓偏振測厚儀
型號:JX200096EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀


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光譜橢偏儀
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EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀
型號:JX200100ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀


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光譜橢偏儀
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ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀

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